利用課題は随時受け付けております。
当施設では、年２期制のビームタイムスケジュールを行っております。 応募があり次第、次の期が始まる前に産業課題採択委員会(IN-PAC)を開催します。

更新： 2024.08/08

● 上表に未掲載の「更に次期」の日程は、現状の「上期・下期」の日程とほぼ同じ予定です。 マシンタイム(MT)委員会から日程が提示され次第、上表を更新します。
● 「利用実施予定時期」の期間に照射を希望する方は、この日程表に遅れない様に応募してください。 採択された課題の有効期限は２年間です。最長で２年間の実施計画ごとに応募して下さい。詳しくは Q.A集をご覧ください。
●「産業利用が可能な Time Window」は、直近に開催された MT委員会で報告されている「年度内のMT予定」を元にしています。 加速器施設の都合等で、年度内予定が大幅に変更された場合は、上表を速やかに更新します。
●「新規」課題とは、初めて当施設を利用、もしくは全く新しい課題内容で利用される場合です。 IN-PACを開催して審査を行いますので〆切が早くなります。「趣意書」を期日までに 提出し、早めに当施設の見学に来て、課題申請書の書き方等の打合せが必要です。 課題申請書の〆切は、継続課題の期日までで結構です。
●「継続」課題とは、既に当施設で利用実施済の課題と同内容の課題を申請する場合です。 「課題申請書」を期日までに提出して下さい。応募が継続課題のみの場合、 IN-PACはメール審査で済ませることがあります。
● 既に採択済の課題をお持ちの方で、この時期に実施を予定している場合は、 「ビームタイム申請」時期に必ず実施希望日程表を提出してください。
● 日程希望表が提出された課題について、MT委員会が「ビームタイム日程」を決定します。
● 応募〜審査〜実施までには約５ヶ月程かかりますので、ご利用希望日程を考慮の上、 早めに課題申請をして下さる様お願い申し上げます。 詳しくはご利用方法の流れをご覧ください。
● 成果占有型(有償利用) 半導体デバイス照射 の場合:
　料金表、 趣意書、 課題申請書E5A用　をお使い下さい。
　詳しい説明は、半導体デバイス照射を参照下さい。

RIBF加速器施設の共同利用を統括している、 共用促進室 の 共用促進チーム からアナウンスされる情報です。 産業利用だけでなく、学術分野の国際利用も含む全てのユーザー向けの情報です (英文記述あり)。

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