FDC1
(Forward Drift Chamber 1)
[1] Status Summary
[2] Construction
- G10基板のアルコール洗浄
- 2010年3月に完成したFDC1を試験したところ、最低電圧の50Vでもpotential wireからの>1uAという大きな漏電流があることがわかった。G10基板表面での漏電流の可能性があり、14面のアノード基板を吹き付け法によるアルコール洗浄を行った。洗浄後、ベンチで漏電流を測定し、低下しない物は再度洗浄を行った。 全部のanode面が合格した時点で組み立てを行った。(メモ:しかしノックピンに0.5mm余裕があった為、特製のノックピンで再度組み立てを行う必要がある。)
- He+60%CH4ガスを用いると、かろうじてプラトーに入るまでHVがかかる。
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anode基板のアルコール洗浄 |
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組み立て終了後のFDC1 |
- 低圧ガス処理系の製作
- 通常のPPAC用より大流量が可能な低圧ガス処理系を製作。
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Gas Panel (front) |
Gas Panel (back) |
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- FDC1は別棟の3階の部屋の中の机上に置いてあった。3/11の地震の際に損害が無かったのは低い階にあった為と思われる。
- FDC1外箱の組立とFDC1本体収容
- 部屋にクレーンが無い為、かなりきびしい。次回は理研で。
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FDC1を外箱に入れる |
内部配線用TW cable |
cable,feedthrough,ASD設置後 |
ベータ線試験+ガス処理系 |
- ベータ線による試験
- Gas= i-C4H10, Pressure= 100 torr, Vth_ASD= -0.4V, dV(Vp-Vk)= 50V
- MIP(ベータ線)に対してプラトーを持つ!
- HIMACでのビーム試験
(Jul-2011)
- Setup
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HIMACでのビーム試験−1 |
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- 測定
- FDC1:16ch x 14=224 chを読み出す
- Gas: i-C4H10, P=25, 50, 100 torr
- Beam: z= 8~17, 17~36 @250 MeV/A
- Vth: -0.4V, -0.8V
- dV(Vp-Vk)= 50Vが主
- 結果概要
- 全ての条件でプラトーを持つ。
- efficiencyが50%となる電圧(プラトーは約100V上)。 ただしdE(z=1 @250MeV)~2xdE(MIP)

[3]SAMURAIへの設置
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信号試験 @東北大 |
信号試験 @東北大 |
ケーブル配線前 @理研 |
ケーブル配線完了時 |
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宇宙線による試験時 |
FDC1上流フランジ製作 |
FDC1下流フランジ製作@東北大 |
SAMURAI上流:FDC1設置前 |
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大GV/フランジへの接続後 |
FDC1上流フランジ設置後 |
FDC1 (&DALI2) @Mar-2012 |
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kobayash @lambda.phys.tohoku.ac.jp